文献类型：会议论文

中文题名：准分子脉冲激光(KrF)的化学气相掺杂研究

作者：马锡英 [1];施维林 [2];

机构：[1]绍兴文理学院数理信息学院物理系,光电材料研究所,绍兴,312000;[2]兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;

会议日期：2004年10月18日

会议地点：黄山

主办单位：中国光学学会

语种：中文

中文关键词：准分子脉冲激光;δ掺杂;脉冲激光

中文摘要：本文应用准分子脉冲激光KrF (248 nm) 和BCl3气体研究了激光化学气相的掺杂特性。应用C-V法对P-Si(100)掺杂样品的杂质浓度进行了分析, 发现脉冲激光气相掺杂与激光能量密度有密切关系，其能量密度阈值为0.75J／cm2。在一定的能量密度下，通过控制脉冲激光数, 可实现δ-掺杂、调制掺杂和P＋型重掺杂等不同要求的掺杂。说明应用脉冲激光可进行有效的调制掺杂，可精确地控制器件各层中的载流子浓度分布。