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详细信息

一种硅片清洗烘干装置    

文献类型:专利

中文题名:一种硅片清洗烘干装置

作者:徐海涛[1];

机构:[1]绍兴文理学院;

专利类型:发明专利

申请号:CN201810313277.8

申请日:20180410

申请人地址:312000 浙江省绍兴市环城西路508号

公开日:20180904

代理人:郭云梅

代理机构:绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙)

语种:中文

中文关键词:清洗烘干机构;清洗;硅片清洗;清洗效果;支撑架;支撑台;喷洗;超声波发生器;超声波清洗槽;喷头;传送装置;顶部设置;光伏设备;烘干装置;化学溶液;超声波;烘干室;接水槽;热风机;上料台;酸洗槽;防毒;硅片;烘干;上料;费力;溶解;腐蚀

中文摘要:本发明涉及光伏设备技术领域,且公开了一种硅片清洗烘干装置,包括第一支撑架,所述第一支撑架的顶部固定连接有支撑台,所述支撑台的底部一侧设置有清洗烘干机构,所述清洗烘干机构的顶部设置有防毒机构,所述清洗烘干机构的一侧设置有上料台。本发明解决了现有的硅片清洗时上料费力、效果不佳、有毒气体乱飘和传送装置易腐蚀的问题,通过清洗烘干机构、酸洗槽、超声波清洗槽、超声波发生器、喷洗槽、喷头、烘干室、热风机和接水槽,改变硅片通常采用一种方式清洗,导致清洗效果不佳的问题,只需要先用化学溶液溶解,然后利用超声波进行清洗,最后进行喷洗,清洗完毕后再烘干,从而达到良好的清洗效果。

参考文献:

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